靶材的作用許多，并且商場開展空間較大，它在許多領域都有很好的用途。新式的濺鍍設備簡直都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加快靶材周圍的氬氣離子化, 構成靶與氬氣離子間的碰擊機率增加！下面就讓北京瑞弛的小編為大家分享一下關于在真空電鍍膜中靶材的作用有哪些的相關知識！
提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁資料則使用RF溝通濺鍍,基本的原理是在真空中使用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子碰擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加快沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上構成薄膜。
一般來說，使用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特色：
(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜資料。
(2)再適當的設定條件下可將多元雜亂的靶材制作出同一組成的薄膜。
(3)使用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。
(4)靶材輸入電流及濺射時刻可以控制，容易得到高精度的膜厚。
(5)較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。
(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自在組織。
