現在社會上越來越多的用戶都了解了靶材的種類以及靶材的用途，如果是細分的話，可能不會清楚的區分具體的靶材類型，現在就讓北京瑞弛的小編來和大家一起分享一下關于磁控濺射靶材的類型介紹!
濺射靶材：金屬濺射鍍膜靶材，合金濺射鍍膜靶材，陶瓷濺射鍍膜靶材，硼化物陶瓷濺射靶材，碳化物陶瓷濺射靶材，氟化物陶瓷濺射靶材 ，氮化物陶瓷濺射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷濺射靶材 ，硅化物陶瓷濺射靶材 ，硫化物陶瓷濺射靶材 ，碲化物陶瓷濺射靶材 ，其他陶瓷靶材，摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)。
磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡略，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電資料外，也可濺射非導電的資料，濺射靶材一起還司進行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物資料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，目前常用的有電子回旋共振(ECR)型微波等離子體濺射。
