產品類別 | 金屬靶材 |
產品簡稱 | Hf |
產品全稱 | hafnium |
產品純度 | 99.9%,99.95%,99.99% |
產品形狀 | 平面靶,柱狀靶,電弧靶,異型靶 |
生產工藝 | Vacuum Melting,PM |
最大尺寸 | L≤2000mm,W≤200mm |
產品細節:
鉿的原子序數72,原子量178.49,熔點2227℃,沸點4602℃,密度13.31g/cm3,單質是一種帶光澤的銀灰色的過渡金屬,鉿不與稀鹽酸、稀硫酸和強堿溶液作用,但可溶于氫氟酸和王水。
鉿濺射靶材的應用:引入氧氣分壓,可以用磁控濺射或反應濺射鉿濺射靶,制備氧化鉿薄膜。所得薄膜可用于多種用途,包括用于光子學的光學涂層、薄膜電阻、耐腐蝕性、核產品、集成電路中的柵極絕緣體和傳感器。
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